虹华科技股份有限公司
设为首页|收藏本站|繁体中文|English
  • 网站首页
  • 关于我们
  • 解决方案
  • 产品中心
  • 客户案例
  • 联系我们
  •  

    产品中心

    高纯金属铜
    稀土金属
    催化剂

    金(Au)系列

    银(Ag)系列

    铜(Cu)系列

    铂(Pt)系列

    钯(Pd)系列

    铑(Rh)系列

    铱(Ir)系列

    铜系列产品

    联系方式

    虹华科技股份有限公司
    公司地址:成都高新西区西芯大道5号汇都总部园2栋11楼
    电  话:028-87870658
    邮  编:610000
    Email:honhua163@163.com
     

    当前位置:网站首页 > 产品中心 > 高纯金属铜
    高纯金属铜

    高纯铜靶材胚料

     高纯铜靶材胚料
    • 型号可定制
    • 品牌成都虹华环保科技股份有限公司
    • 价格面议
    • 联系电话13551321900
    • 联系人郭建敏

    详细描述

    纯度: 4N~7N

    规格:常用直径:φ25.4mm,φ50mm,φ50.8mm,φ60mm,φ76.2mm,φ80mm,φ101.6mm,φ100mm;常用厚度:3mm~6.35mm;高纯铜靶材胚料的厚度,直径均可按客户要求定制。

    主要用途:高纯铜靶材胚料是利用我们自主生产的铜板经熔铸轧制而成,主要用于光、电、半导体靶材等领域。应用于各种单靶溅射系统、多靶溅射系统、离子溅射系统等磁控溅射设备。

    High purity copper target materials

    Purity: 4N~7N

    Specification: Common diameter: φ 25.4mm, φ 50mm, φ 50.8mm, φ 60mm, φ 76.2mm, φ 80mm, φ 101.6mm, φ 100mm; common thickness: 3mm ~ 6.35mm; the thickness and diameter of high-purity copper target embryo material can be customized according to customer requirements.

    Main Usage:

    High purity copper target blank is made of our own copper plate by melting, casting and rolling. It is mainly used in optical, electrical, semiconductor targets and other fields. It is used in various magnetron sputtering equipment, such as single target sputtering system, multi target sputtering system and ion sputtering system.

    分享到:
    点击次数:  更新时间:2020-09-21 09:24:40  【打印此页】  【关闭】
    上一条: 氧化钪  下一条:高纯铜锭
    • 虹华科技股份有限公司(总部)
      地址:成都高新西区西芯大道5号汇都总部园2栋11楼 邮编:610000
    • 电话
      4009710567
    • 传真
      028-87870658
    • 邮件
      honhua163@163.com

    Copyright © 2015 cdhhhb.com(虹华科技股份有限公司), All Rights Reserve

    蜀ICP备20018334号-1、蜀ICP备20018334号-2 | 技术支持